一、500g真空懸浮熔煉爐設備用途
真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和新材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。
采用臥式爐體，側部開門結構，進出料方便，爐體結構緊湊，占地空間較小。坩堝反映較強烈的材料（如鈦及其合金）更顯示出其優勢。在工業上廣泛應用于鈦、鋯及其合金的熔鑄。真空懸浮爐是專門為材料科學科研而設計的，也是一種專用的現代化高純度熔煉設備。
二、設備特點
1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。
2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。
4·采用兩級分子泵控制系統真空度高，可達5.0*10-5pa。
三、500g真空懸浮熔煉爐主要技術參數
1、額定功率：100Kw
2、容量（以鈦計）：0.5Kg
3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
4、冷態極限真空度：6.67×10E-4Pa
5·坩堝尺寸：D90*50
6.控制方式：plc+模擬屏
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